15分钟了解光刻胶行业2021年全年进展

一月

华懋科技投资5.8亿进军光刻胶领域

1月3日，华懋科技旗下产业基金——东阳凯阳科技创新发展合伙企业对外投资公告称，东阳凯阳于2020年12月30日，与傅志伟、上海博康、徐州博康签署了《投资协议》及其附属文件。华懋科技通过东阳凯阳对徐州博康进行投资，将切入半导体关键材料光刻胶领域。

上海新阳：预计ASML-1400光刻机3月底前进入合作方现场

1月5日，上海新阳发布公告称，公司与北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司签署《合作框架协议》，双方将合作在北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司指定工厂搭建光刻胶验证平台。

未来公司采购的用于193nm ArF干法光刻胶研发的ASML-1400光刻机将放置于合作方指定的地点，待底座安装完成后，即可进行调试使用。预计光刻机进入合作方现场的时间是2021年3月底前。

圣泉集团IPO过会，拟募资12亿布局光刻胶上游材料等

1月7日，中国证券监督管理委员会召开第十八届发行审核委员会2021年第4次发审委会议，济南圣泉集团股份有限公司（首发）获通过。

根据招股说明书显示，公司本次拟公开发行不超过1亿股人民币普通股，不低于本次发行后股本的10%，募集资金扣除发行费用后，将根据轻重缓急投资以下项目：

来源：圣泉集团

晶瑞股份7000万引入ArF光刻机

1月19日，晶瑞股份发布了“关于购买光刻机设备进展情况的公告”。公告表示，公司顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。

采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。该设备于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。

年产1600t光刻胶材料项目落户山东

1月23日，山东威海南海新区举行了2021年项目集中签约仪式，11个项目集中签约。此次签约的项目包括光刻胶核心材料等项目。

其中，光刻胶核心材料项目实施主体为山东科莱福光电科技有限公司，公司成立于2020年11月。该项目建筑面积3万平方米，计划打造包含颜料绿G58生产的新材料生产基地。

来源：瑞祥环保监测

二月

华为高薪聘博士攻关透明PI膜、光刻胶材料

2月消息，华为FiND上合平台发布的招聘信息显示，公司正在以下5项光电材料科研课题招聘博士后，分别是电子封装材料配方研究；柔性材料研究；PFA低介电损耗材料；光敏性聚酰亚胺光敏剂及相关小分子助剂的合成及应用研究；低介质、高耐热高模量低CTE透明聚酰亚胺薄膜材料。

华为上海博士后科研工作站部分课题

（来源：FiND上合平台）

彤程新材控股北京科华

2月24日，彤程新材全资子公司彤程电子与舟山宁雨签订了《股权转让协议》，根据科华微电子的资产评估结果，北京科华微电子材料有限公司股东全部权益价值评估值为 65,000 万元，以该评估结果为基础，最终彤程电子以4,365万元的价格受让舟山宁雨持有的科华微电子6.72%股权。

同日，彤程电子与持有科华微电子13.97%股权的股东 Meng Technology Inc.签订《一致行动协议》。本次交易完成后，彤程电子将直接持有科华微电子42.26%股权，与 MengTechnology Inc.合计持有科华微电子 56.23%股权。

三月

世名科技光敏材料、光刻胶材料项目签约落户安徽

世名科技发布公告称，公司与马鞍山慈湖高新技术产业开发区管理委员会签订《入区协议》，并使用自有或自筹资金2.2 亿元，投资建设“年产56000吨先进光敏材料及1000吨光刻胶纳米颜料分散液项目”。

项目产品主要包括30000吨光聚合单体、20000吨高性能树脂、1000吨光刻胶纳米颜料分散液、6000吨UV纳米颜料色浆，预计2022年9月30日前建设完成。

中芯国际和阿斯麦采购协议延长一年，12亿美元订购光刻机

3月3日，中芯国际发布公告称，此前与全球光刻机巨头荷兰阿斯麦签署采购协议延长一年，根据采购协议签署的购买单总价格逾12亿美元。中芯国际未具体披露这次采购协议涉及哪些具体产品。

公开消息显示，2020年3月，中芯国际深圳工厂从荷兰进口了一台大型光刻机，但这台光刻机并非用于7纳米的EUV光刻机。另外，2018年中芯国际曾向阿斯麦下单了一台EUV光刻机，但由于美国方面的阻扰，这台机器至今还未交付。

上海新阳ASML-1400光刻机交付

3月8日，上海新阳发布公告称，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露。

现经各方积极协商、运作，该光刻机设备已进入北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

飞凯材料“半导体制造先进材料项目”落户江苏

3月9日，总投资2亿元的“飞凯材料半导体制造先进材料项目”签约仪式在江苏太仓港区举行。

飞凯材料半导体制造先进材料项目将建设产线生产半导体制造及封装过程中的光刻胶、金属沉积液、剥离液、显影液、清洗液、蚀刻液等产品。

徐州博康年产1100吨光刻材料项目或于6月投产

近日，据徐州新闻网报道称，徐州博康信息化学品有限公司为扩大产能和延伸产业链，新建“年产1100吨光刻材料及10000吨电子级溶剂搬迁技改项目”，目前，该项目正在忙着安装调试设备，以保证6月份顺利投产。

飞凯材料“半导体制造先进材料项目”落户江苏

3月25日，江苏南大光电材料有限公司发布创业板上市募集说明书，据说明书显示，南大光电拟募资6.13亿元，本次募集资金投资项目建成后产出的产品包括ArF光刻胶和三氟化氮，主要应用于集成电路制造、平面显示等行业，其中，光刻胶相关项目拟募资金额为3亿元。

四月

新型显示迎政策利好，光刻胶等将获进口税收优惠支持

4月13日，中国财政部、海关总署、国家税务总局公布《关于2021-2030年支持新型显示产业发展进口税收政策的通知》。

《通知》表示，自2021年1月1日至2030年12月31日，对以下产品免征进口关税——

新型显示器件（即薄膜晶体管液晶显示器件、有源矩阵有机发光二极管显示器件、Micro-LED显示器件，下同）生产企业进口中国国内不能生产或性能不能满足需求的自用生产性原材料、消耗品和净化室配套系统、生产设备（包括进口设备和国产设备）零配件；

新型显示产业的关键原材料、零配件（即靶材、光刻胶、掩模版、偏光片、彩色滤光膜）生产企业进口国内不能生产或性能不能满足需求的自用生产性原材料、消耗品。

承建新型显示器件重大项目的企业自2021年1月1日至2030年12月31日期间进口新设备，除《国内投资项目不予免税的进口商品目录》、《外商投资项目不予免税的进口商品目录》和《进口不予免税的重大技术装备和产品目录》所列商品外，对未缴纳的税款提供海关认可的税款担保，准予在首台设备进口之后的6年期限内分期缴纳进口环节增值税，6年内每年依次缴纳进口环节增值税总额的0%、20%、20%、20%、20%、20%，自首台设备进口之日起已经缴纳的税款不予退还。在分期纳税期间，海关对准予分期缴纳的税款不予征收滞纳金。

泛林集团发布突破性光刻胶技术

泛林集团与ASML和imec合作研发出了一种完全不同于旋转涂胶的突破性光刻胶技术。泛林集团表示，这种技术可通过使用气相的反应前体制出均匀且一致的薄膜。

这项新技术需要用干法沉积微小（

国科天骥光刻胶项目在滨州试生产

4月29日上午，国科天骥新材料有限责任公司“光刻胶滨州生产园区交付暨试生产仪式”在山东滨州经济技术开发区举行。该项目投产后将主要用于芯片核心材料——高档光刻胶的研发生产。

国科天骥的“超高精细光刻胶项目”总投资为1.03亿元。项目一期建成后可达到年产2000L超高精细光刻胶的生产规模，二期项目建成后可达到年产15000L超高精细光刻胶的生产规模。

五月

光刻机巨头ASML计划在韩国建厂

据外媒消息，韩国贸易工业与能源部（MOTIE）对当地媒体表示，全球光刻机龙头企业——阿斯麦尔（ASML）已计划在韩国办厂并打造培训中心。

ASML将在未来四年内，向韩国投资2400亿韩元（折合人民币约13.61亿元），在当地打造一个再制造厂（remanufacturing）以及培训中心等基础设施。

建设最先进5nm工艺，三星首次在海外设立EUV生产线

据etnews消息，三星电子将在美国德克萨斯州奥斯汀市建设极紫外线（EUV）铸造（寄售生产）生产线，这是三星首次在海外设立EUV生产线。

三星电子奥斯汀半导体工厂（图片来源：etnews）

据业内消息，此项工程将在2021年第三季度开始建设，预计于2024年开始运营。三星电子计划在新的圆晶厂中采用5nm工艺，也是迄今为止三星电子商业化的半导体工艺中最先进的工艺。

南大光电募资1.5亿用于光刻胶项目

5月24日，南大光电发表向特定对象发行股票并在创业板上市募集说明书 。本次向特定对象发行股票的募集资金总额不超过61,300.00万元，其中，拟使用1.5亿元用于光刻胶项目。

来源：南大光电募集说明书

本次募投项目建设完成后，各产品预计产能如下：

来源：南大光电募集说明书

东进世美肯新半导体光刻胶工厂全面运营

据韩媒报道，5月25日，东进世美肯在京畿道华城巴兰的工厂举行了新光刻胶制造大楼的竣工仪式和产品交付仪式，其投资200亿韩元的新半导体光刻胶工厂全面运营。首席执行官Jun-h-hyuk表示计划在这里生产EUV光刻胶。

据悉，东进世美肯新工厂于去年4月开始建设，同年12月正式投入生产和经营。它的总建筑面积为3400平方米。据了解，新工厂的最大产能为每月32000加仑（约合121133.18升），是当前生产能力的四倍。

广信材料光刻胶项目正筹备厂房，计划今年进行产品试制

5月26日，广信材料在回答投资者提问时表示，公司光刻胶项目目前正在筹备厂房和扩充团队过程中，并计划今年进行产品试制和客户开拓。

广信材料于2018年11月25日与廣至新材料有限公司（中国台湾企业）签订了《技术委托开发合同》，委托台湾廣至合作研究开发“印刷电路板柔性基板用等用途的紫外光型正型光刻胶”技术项目（下称光刻胶技术开发项目），项目可应用于印刷电路板柔性基板、LCD及LED显示面板、半导体元器件等领域的高分辨率紫外光型正型光刻胶，产品可以使用水性显影液显影。

三井化学在全球率先商业化生产EUV薄膜，已获ASML许可

5月26日，三井化学发布公告，宣布已开始商业化生产EUV防护膜，公司已获得荷兰光刻机厂ASML的EUV薄膜业务许可协议，将在全球率先进行EUV薄膜商业化生产，地点位于新设立的岩国大竹工厂。

三井化学将通过EUV防护膜等与ICT领域相关产品，积极响应客户对技术创新的要求，例如为半导体的进一步小型化做贡献。未来，三井化学将与ASML合作，配合EUV曝光机的演进，改进和创新EUV薄膜技术。

六月

Miwon将向三星供应大量KrF光刻胶原料

6月2号，据韩网报道，随着三星将其3D NAND从第6代升级到第7代，韩国化学公司Miwon Commercial（美源商事株式会社，以下简称Miwon）可能会向三星提供更多的KrF光刻胶原料。

Miwon成立1959年，是一家拥有60多年历史的化学品制造公司，开发并商业化了多种高附加值精细化工产品，如表面活性剂、光敏剂、紫外线稳定剂和抗氧化剂。

彤程电子年产1.1万吨光刻胶项目顺利开工

近日，上海彤程电子材料有限公司“半导体光刻胶及高纯试剂项目”已在上海化学工业区顺利开工，计划年内机械竣工。

据了解，该项目投资5.6988亿元，在上海化学工业区建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，预计于2021年末建成投产，2022年具备一定生产能力，2025年达产。

信越化学宣布断供光刻胶

据集微网报道，由于KrF光刻胶产能受限以及全球晶圆厂积极扩产等原因，日本信越化学已经向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶，甚至已通知部分中小晶圆厂停止供货KrF光刻胶，国内多家晶圆厂将会面临KrF光刻胶大缺货的处境。

东京电子宣布为ASML提供下一代EUV设备

6月8日，东京电子（Tokyo Electron）宣布公司将向同行业的荷兰ASML和比利时的研究机构imec联合运营的“imec-ASML high NA EUV实验室”供应新一代设备。

据悉，该设备将与ASML的下一代EUV（极紫外）光刻设备相组合，计划于2023年投入使用。

南大光电ArF光刻胶产品拿下首个小批量订单

6月11日，南大光电在深交所互动易投资者互动平台回答提问时称，公司ArF光刻胶产品拿到首个小批量订单，本期有极少量销售额。目前尚未实现稳定量产。此外，南大光电表示目前正在自主研发和产业化的ArF光刻胶产品，可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点。

此前，南大光电于5月31日发布公告称，其控股子公司宁波南大光电材料有限公司自主研发的ArF光刻胶产品在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。

晶瑞股份KrF光刻胶已进入客户测试阶段

6月22日，晶瑞股份在投资者互动平台中表示，公司的KrF光刻胶完成中试，建成了中试示范线，目前已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率，测试通过后即可进入量产阶段；公司ArF高端光刻胶研发工作已正式启动，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶，满足当前集成电路产业关键材料市场需求；公司半导体光刻胶g/i线光刻胶正在批量供货，产销两旺。

光引发剂厂商四川沃肯投建国内光刻胶材料研发平台

据两江新区官网报道，近日，两江新区与四川沃肯精细化工有限公司（以下简称“沃肯精细化工”）签订协议，沃肯精细化工将在两江新区投资建设其国内首个研发平台，进行生物医药、国产光刻胶、有机合成工业安全等方面研究。

该项目将入驻两江新区水土新城大地生物医药产业园，预计今年年底建成投入使用。沃肯精细化工光刻胶产品的后续研发工作将在两江新区进行，致力于高端光刻胶产品的研发攻关。

国风塑业与中科大合作，开展PI及光刻胶研发

6月27日，安徽国风塑业股份有限公司发布公告称，公司近期与中国科学技术大学先进技术研究院（以下简称“中科大先研院”）签署了《中国科学技术大学先进技术研究院与安徽国风塑业股份有限公司共建中科大先研院-国风塑业新型显示与集成电路PI材料联合实验室合作协议》，决定共同建立“中科大先研院-国风塑业新型显示与集成电路PI材料联合实验室”。

双方在联合实验室开展新型显示与集成电路PI材料等相关方向研究，共同开展柔性衬底PI浆料、热塑性聚酰亚胺（TPI）复合膜、光敏聚酰亚胺（PSPI）光刻胶的研究工作。

上海新阳KrF光刻胶已取得第一笔订单

6月30日，上海新阳发布公告称，公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。

KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是上海新阳第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化”取得了成功，为上海新阳在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。

来源：势银膜链

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2021势银光刻胶产业大会回顾

2021年6月24日-25日，由势银（TrendBank）、上海彤程电子材料有限公司联合主办、势银膜链承办的“2021势银光刻胶产业大会（PRIC)”在上海阿纳迪酒店正式举行。

此次峰会的主题为“需求热潮下的光刻胶产业‘破局’”。为推动改善光刻胶材料及设备出现的“卡脖子”问题，同时也为加强行业内产品与技术、市场现状与趋势的交流，本次会议，我们邀请到了行业内的资深专家共同探讨光刻胶产业趋势、技术及产品发展。